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一、特点
除了对20-30mm高度的金属试样作分析鉴定外，由于符合人的日常习惯，因此更广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。
二、主要技术参数
1、镜筒：B双目/T三目，30度倾斜，360度旋转，镜筒辅助倍数1.25X
2、高眼点目镜：PLAN10XΦ20mm
3、长工作距离平场物镜：PL4X，PL10X，PLL40X（S），PL100X（oil）（S）
4、转换器：四孔
5、总放大倍数：50X-1250X
6、载物台：尺寸160mmX140mm ，移动范围75mmX50mm
7、聚焦镜：可调式阿贝聚焦镜NA1.25，孔径光阑，滤色片座
8、焦光镜：高亮点固定式照明与柯勒照明柯互陪
9、调焦：粗微动同轴，升降范围20mm，微动格值0.002mm ，带锁紧和限位装置
10、光源：透反射柯勒照明，透射照明卤素灯12V20W，反射照明卤素灯12V50W，亮度可调
11、正交偏振装置
三、选配件：
1、目镜：12.5X、16X、20X
2、带尺可调目镜：HWF10X（精度0.01mm或0.005mm）
3、物镜：5X、20X、25X、50X、60X、80X、100X(干）
4、软件：金相分析软件、粒度分析软件、测量软件等式
5、转换器：五孔
6、电脑图像分析系统：
金相分析系统：LW200-4JT主机、图像适配镜、数码摄像头、金相分析软件、电脑
电脑型：LW200-4JT主机、图像适配镜、数码摄像头、电脑
数码型：LW200-4JT主机、图像适配镜、数码相机、电脑
